低溫等離子清洗機(jī)是利用等離子體技術(shù)對(duì)物體表面進(jìn)行清洗，在清洗過程中使用相對(duì)較低的溫度，通常在室溫到幾十?dāng)z氏度之間。這使得它適用于對(duì)溫度敏感的物體進(jìn)行清洗，避免了高溫對(duì)物體造成的熱損傷。
 

　　該設(shè)備利用等離子體產(chǎn)生的活性粒子，如離子、電子和自由基等，對(duì)物體表面進(jìn)行清洗。等離子體清洗具有高效、均勻、無殘留的特點(diǎn)，可以去除表面的有機(jī)污染物、油脂、粉塵等。
 

　　低溫等離子清洗機(jī)和高溫等離子清洗機(jī)是兩種不同的清洗設(shè)備，它們?cè)谇逑礈囟群蛻?yīng)用領(lǐng)域上存在一些區(qū)別。
 

　　1、清洗溫度：低溫在清洗過程中使用相對(duì)較低的溫度，通常在室溫到幾十?dāng)z氏度之間。而高溫則在清洗過程中使用高溫，通常在幾百攝氏度到數(shù)千攝氏度之間。
 

　　2、清洗效果：低溫適用于對(duì)溫度敏感的物品進(jìn)行清洗，可以有效去除表面的有機(jī)污染物、油脂、粉塵等。高溫則能夠更干凈地清洗物品表面，包括去除表面的無機(jī)污染物、金屬氧化物、硅化物等。
 

　　3、應(yīng)用領(lǐng)域：低溫常用于電子、光電、醫(yī)療器械等領(lǐng)域，清洗電子元件、光學(xué)元件、醫(yī)療器械等。高溫等離子清洗機(jī)常用于半導(dǎo)體、太陽能、航空航天等領(lǐng)域，清洗半導(dǎo)體芯片、玻璃基板、航空零部件等。
 

　　4、清洗機(jī)理：低溫主要通過等離子體的化學(xué)反應(yīng)和物理碰撞來清洗物品表面。高溫則利用高溫下的熱化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng)來清洗物品表面。